一种光学晶体用表面处理装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种光学晶体用表面处理装置,涉及光学晶体生产技术领域,包括清洗箱,清洗箱的内部安装有内安装杆,两个内安装杆之间安装有夹持机构,清洗箱的一侧设置有存水机构,清洗箱的内部开设有输水管,清洗箱内部开设有多个排水孔,输水管与排水孔相通,清洗箱底部转动连接有搅拌叶片,清洗箱的底部设置有驱动机构,本实用新型的有益效果为:该光学晶体用表面处理装置,通过使用纯水清洗的方式对光学晶体进行清洗,并且通过喷洒、浸泡和流动水三重清洗的方式对光学晶体进行清洗,可以在晶体表面被完全清洗的情况下避免划痕和附着物的产生,相比于目前使用的清洗方式而言,提高了清洗的效果。

基本信息
专利标题 :
一种光学晶体用表面处理装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021541312.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-29
授权号 :
CN213255986U
授权日 :
2021-05-25
发明人 :
万文
申请人 :
安徽环巢光电科技有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市巢湖市居巢区黄麓镇临湖居委会
代理机构 :
成都蓉创智汇知识产权代理有限公司
代理人 :
谭新民
优先权 :
CN202021541312.0
主分类号 :
B08B3/10
IPC分类号 :
B08B3/10  B08B3/02  B08B13/00  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的,如用加热,电力,振动
法律状态
2021-05-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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