深度测量系统及电子设备
授权
摘要

本实用新型提供一种深度测量系统及电子设备,深度测量系统包括激光投影装置、第一成像装置、第二成像装置和处理器;激光投影装置用于向第一成像装置和第二成像装置的共有视场投射经编码的结构光图案光束,激光投影装置包括:激光发射器、驱动组件和投影组件,驱动组件用于驱动投影组件移动以改变投影组件与激光发射器之间的距离,使得激光投影装置投影的结构光图案光束的聚焦位置发生改变;第一成像装置用于获取共有视场的第一图像;第二成像装置用于获取共有视场的第二图像;处理器利用第一图像和第二图像根据双目视觉原理计算深度图像。该系统能实现在近距范围内和远距范围内都可以获得高质量的投影光束,并获得较高的测量精度。

基本信息
专利标题 :
深度测量系统及电子设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021575711.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-30
授权号 :
CN213091888U
授权日 :
2021-04-30
发明人 :
黄杰凡
申请人 :
奥比中光科技集团股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦11-13楼
代理机构 :
深圳新创友知识产权代理有限公司
代理人 :
江耀纯
优先权 :
CN202021575711.9
主分类号 :
G01S17/89
IPC分类号 :
G01S17/89  G01S7/481  H04N13/239  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01S
无线电定向;无线电导航;采用无线电波测距或测速;采用无线电波的反射或再辐射的定位或存在检测;采用其他波的类似装置
G01S17/875
用来决定高度
G01S17/88
专门适用于特定应用的激光雷达系统
G01S17/89
用于绘地图或成像
法律状态
2021-04-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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