进气装置及半导体设备
授权
摘要
本实用新型提供一种用于半导体设备的进气装置及半导体设备，其中，进气装置包括至少一条用于向半导体设备的工艺腔室内输送稀释气体和反应气体的工艺气体管路，该进气装置还包括吹扫气体管路，吹扫气体管路与工艺腔室连通，用于向工艺腔室内输送吹扫气体。本实用新型提供的半导体设备的进气装置及半导体设备，能够提高反应气体的排气效率，提高半导体工艺结束的及时性，从而能够降低过刻蚀的概率，提高工艺效果。
基本信息
专利标题 ：
进气装置及半导体设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021641439.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-10
授权号 ：
CN213146092U
授权日 ：
2021-05-07
发明人 ：
王春徐刚郑波马振国
申请人 ：
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 ：
北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
彭瑞欣
优先权 ：
CN202021641439.X
主分类号 ：
F17D1/02
IPC分类号 ：
F17D1/02 H01L21/67 F17D3/01
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F17
气体或液体的贮存或分配
F17D
管道系统；管路
F17D
管道系统；管路
F17D1/00
管道系统
F17D1/02
用于气体或蒸气的
法律状态
2021-05-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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