本发明公开了一种半导体工艺设备的进气模块及半导体工艺设备，进气模块中设置有进气腔，进气腔的一端与进气管路连通，进气腔的另一端与半导体工艺设备的工艺腔室连通；进气腔内沿横向设置有多个进气隔块机构，多个进气隔块机构将进气腔分隔成多个子进气腔；进气隔块机构构包括两个移动块和驱动器，驱动器用于驱动移动块在进气腔内横向移动，以改变子进气腔的宽度和相邻两个子进气腔之间的间隔距离；该进气模块具有设置在进气腔内的多个进气隔块结构，利用每个进气隔块结构的两个移动块的移动，能够调节子进气腔的宽度及相邻两个子进气腔之间的间隔距离，进而更好地控制工艺气体在工艺腔室内的分布。