基板载具及电沉积设备
授权
摘要
本实用新型提供一种基板载具及电沉积设备，所述基板载具用于承载待镀膜基板，所述待镀膜基板包括相背设置的第一面和第二面，所述第一面上设有导电膜层；所述基板载具包括一载具本体，所述载具本体包括用于承载及固定所述待镀膜基板的至少一个承载面，所述载具本体上设有用于将所述待镀膜基板限位固定在所述承载面上的固定机构，所述载具本体上还设有导电机构，所述导电机构能够使所述待镀膜基板的所述导电膜层导通电信号。本实用新型提供的基板载具及电沉积设备，能够实现对玻璃基板进行电化学沉积，提升产能。
基本信息
专利标题 ：
基板载具及电沉积设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021649802.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-10
授权号 ：
CN212713813U
授权日 ：
2021-03-16
发明人 ：
闫俊伟袁广才董士豪张国才王成飞孙少东齐琪曹占锋潘小杰
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
许静
优先权 ：
CN202021649802.2
主分类号 ：
C25D17/06
IPC分类号 ：
C25D17/06 C25D5/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
C25D17/06
施镀制品的悬挂或支承装置
法律状态
2021-03-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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