基板载具、基板载具阵列和气相沉积装置
授权
摘要
本实用新型实施例提供了一种基板载具、基板载具阵列和气相沉积装置，其中，所述基板载具包括：基板载板；第一固定部，设置在所述基板载板的第一表面，用于固定基板；第二固定部，设置在所述基板载板的第二表面，用于固定另一基板，所述第二表面与所述第一表面相对。
基本信息
专利标题 ：
基板载具、基板载具阵列和气相沉积装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020933954.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-28
授权号 ：
CN212247203U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
叶继春曾俞衡廖明墩闫宝杰王玉明陈晖程海良谢利华李旺鹏
申请人 ：
苏州拓升智能装备有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区木渎镇金枫南路1258号B3幢二楼
代理机构 ：
北京金智普华知识产权代理有限公司
代理人 ：
皋吉甫
优先权 ：
CN202020933954.9
主分类号 ：
C23C16/458
IPC分类号 ：
C23C16/458 C23C16/503 H01L21/687
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/458
在反应室中支承基体的方法
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN212247203U.PDF
PDF下载
