用于燃烧化学气相沉积的基板温度控制
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
通过燃烧化学气相沉积(C－CVD)将膜沉积在挠性(塑料/金属)薄片和/或温度敏感的基板(101)上的方法。通过吸力将基板(101)固定在适当的位置上以提供基板(101)和基板固定器(102)之间的物理和热接触，同时，使用冷却液和基板(101)冷却基板固定器(102)。控制C－CVD期间对基板(101)的加热并避免由加热造成的恶化。薄片或者基板(101)特别适于在平板和挠性显示器中使用。
基本信息
专利标题 ：
用于燃烧化学气相沉积的基板温度控制
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101072895A
申请号 ：
CN200580042133.4
公开（公告）日 ：
2007-11-14
申请日 ：
2005-12-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
J·A·M·阿莫莱恩R·T·H·梅森
申请人 ：
皇家飞利浦电子股份有限公司
申请人地址 ：
荷兰艾恩德霍芬
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
王英
优先权 ：
CN200580042133.4
主分类号 ：
C23C16/453
IPC分类号 ：
C23C16/453
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/453
通过燃烧器或喷灯的反应气体法，例如在大气压下的CVD法
法律状态
2011-04-13 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101080530093
IPC(主分类) : C23C 16/453
专利申请号 : 2005800421334
公开日 : 20071114
号牌文件序号 : 101080530093
IPC(主分类) : C23C 16/453
专利申请号 : 2005800421334
公开日 : 20071114
2009-10-07 ：
专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 皇家飞利浦电子股份有限公司
变更后权利人 : 英诺温特公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 荷兰艾恩德霍芬
变更后权利人 : 德国耶拿
登记生效日 : 20090904
变更前权利人 : 皇家飞利浦电子股份有限公司
变更后权利人 : 英诺温特公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 荷兰艾恩德霍芬
变更后权利人 : 德国耶拿
登记生效日 : 20090904
2008-02-06 ：
实质审查的生效
2007-11-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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