一种光学薄膜加工用退镀系统
授权
摘要

本实用新型公开了一种光学薄膜加工用退镀系统,包括工作台,所述工作台对称设有挡板,所述工作台靠近挡板的一端通过横板固定连接有气缸,所述气缸的输出轴固定连接有放置板,所述放置板和工作台滑动连接,所述放置板靠近气缸的一端设有压紧机构,所述工作台固定连接有阴极板,所述阴极板和放置板配合设置。本实用新型通过设置一种光学薄膜加工用退镀系统,使得镀膜工序不合格的光学薄膜进行退镀工作时能够进行平整压紧,有效避免薄膜退镀过程中产生折叠,提高薄膜的退镀效果,降低材料的资源浪费,同时通过对压紧机构设置带有压块的压板,能够减少薄膜和压板之间的接触面积,进而提高薄膜退镀工作的充分性,适合范围进行推广。

基本信息
专利标题 :
一种光学薄膜加工用退镀系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021672502.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-12
授权号 :
CN213357804U
授权日 :
2021-06-04
发明人 :
范新镇
申请人 :
西安艾美科光电科技有限公司
申请人地址 :
陕西省西安市雁塔区富民路西段路南2号
代理机构 :
西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
刘长春
优先权 :
CN202021672502.6
主分类号 :
C25F7/00
IPC分类号 :
C25F7/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25F
电解法除去物体上材料的方法;其所用的设备
C25F7/00
从物体上电解除去材料用电解槽的构件,或其组合件;维护或操作
法律状态
2021-06-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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