光学薄膜用溅射阴极布气系统
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摘要
本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种光学薄膜用溅射阴极布气系统，系统包括至少一段双套管管路，双套管管路连接有气体质量流量控制器且其输送的工艺气体的质量及流量由气体质量流量控制器控制；双套管管路由内管以及套设在内管外围的外管构成，内管和外管上分别开设有出气孔。本实用新型的优点是：1）工艺气体由多段式布局，并由气体质量流量控制器分别独立控制，可以根据工艺需求分段式的调节进入阴极单元腔体的气体的流量；2）双套管的使用，可以有效的减小单段的外管上分布的各个出气孔处的压差；3）气流传输导流挡板可以使气体多次反射并且引导气体往靶面定向流出；4）扩散导流板可以控制引导气体进入腔体内部的方向。
基本信息
专利标题 ：
光学薄膜用溅射阴极布气系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021884801.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-02
授权号 ：
CN212316235U
授权日 ：
2021-01-08
发明人 ：
靳伟戴秀海陈建飞
申请人 ：
光驰科技（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号
代理机构 ：
上海申蒙商标专利代理有限公司
代理人 ：
周宇凡
优先权 ：
CN202021884801.6
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/54
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-01-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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