一种低辐射镀膜玻璃生产线真空腔体
授权
摘要
本实用新型公开一种低辐射镀膜玻璃生产线真空腔体，包括进口室、真空室与出口室，进口室入口设有第一门阀，进口室与真空室之间设有第二门阀，真空室与出口室之间设有第三门阀，出口室出口设有第四门阀，进口室内设有第五门阀，第五门阀将进口室分隔成外进口室与内进口室；出口室内设有第六门阀，第六门阀将出口室分隔成内出口室与外出口室；该真空腔体的进口室和出口室能够灵活调节，适应不同的玻璃尺寸，缩短抽真空时间，提高生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种低辐射镀膜玻璃生产线真空腔体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021738206.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-19
授权号 ：
CN213142179U
授权日 ：
2021-05-07
发明人 ：
张山山王国璐刘宇付成杰高敏张钟宇
申请人 ：
中建材光电装备（太仓）有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市太仓市太仓港港口开发区长江大道189号
代理机构 ：
安徽省蚌埠博源专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈俊
优先权 ：
CN202021738206.1
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-05-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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