一种微波激发式PVD镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种微波激发式PVD镀膜设备，涉及PVD镀膜领域，包括装置主体，装置主体的两侧固定有冷却箱，装置主体与冷却箱之间连接有出气管，冷却箱的顶部安装有真空泵，真空泵的输出端连接有输气管，输气管的顶端固定有变向阀，变向阀的一侧连接有排气管。本实用新型通过设置有电机、第一隔板、第二隔板、旋转杆和连杆，当使用者需要使用该装置时，使用者将密封门打开，然后使用者将需要镀膜的物料挂在连杆上，将物料挂满后使用者件密封门关闭，然后使用者通过操作面板启动电机工作，电机带动旋转杆转动，旋转杆带动连杆转动，从而避免了装置无法对物料进行多个面进行镀膜，且提高了装置的工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种微波激发式PVD镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021984853.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-11
授权号 ：
CN213232474U
授权日 ：
2021-05-18
发明人 ：
张红星张小健樊天柱
申请人 ：
昆山市正行电子科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市千灯镇宏洋路12号4号房
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021984853.0
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-05-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN213232474U.PDF
PDF下载
