一种硅片清洗装置与设备
授权
摘要
本申请提供了一种硅片清洗装置与设备，涉及硅片生产制备技术领域。该硅片清洗装置包括：硅片夹具，用于夹持待清洗硅片；喷洒杆，喷洒杆内设置有通道，通道用于通入化学清洗液，并朝向待清洗硅片喷洒化学清洗液；定位器，安装于喷洒杆，用于定位待清洗硅片的圆心或硅片夹具的中心，并确定定位角度，以通过定位角度调节化学清洗液的喷洒角度。本申请提供的硅片清洗装置与设备具有即使不同工程师对硅片进行清洗操作，对硅片上的研磨颗粒清洗效果的差异也不会太大，利于后期对硅片的加工。
基本信息
专利标题 ：
一种硅片清洗装置与设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022150588.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
CN213826084U
授权日 ：
2021-07-30
发明人 ：
叶順成
申请人 ：
泉芯集成电路制造(济南)有限公司
申请人地址 ：
山东省济南市高新区机场路7617号411-2-9室
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
李莎
优先权 ：
CN202022150588.2
主分类号 ：
B08B3/02
IPC分类号 ：
B08B3/02 B08B13/00 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/02
用喷射力来清洁
法律状态
2021-07-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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