一种去除湿法工艺腔体内壁残留物的清洗装置

授权

摘要

本实用新型公开了一种去除湿法工艺腔体内壁残留物的清洗装置，具体涉及半导体设备清洗技术领域，包括防护壳，所述防护壳的顶部前端设置有挡板，且防护壳的前端两内侧壁位于挡板的内侧位置处活动连接有透明有机玻璃，所述透明有机玻璃的底端连接有限位横杆，所述限位横杆的两端部靠近防护壳的内壁位置处均安装有第一磁铁块，所述挡板的底部对应第一磁铁块的上方位置处安装有第二磁铁块，所述防护壳的内部靠近透明有机玻璃的下方一侧位置处安装有操作台，所述操作台的底部安装有废液箱。本实用新型在使用时，方便对对清洗箱进行卡紧固定处理，且能够根据清洗箱的大小进行自动调节，清洗效果良好，同时，提高了清洗过程中清洗箱的放置稳定性。

基本信息

专利标题：

一种去除湿法工艺腔体内壁残留物的清洗装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022185337.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-29

授权号：

CN213316677U

授权日：

2021-06-01

发明人：

薛弘宇陈开清刘兴明程阳周建国

申请人：

江苏凯威特斯半导体科技有限公司

申请人地址：

江苏省无锡市锡山经济技术开发区团结路31号

代理机构：

无锡苏元专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

吴忠义

优先权：

CN202022185337.8

主分类号：

B08B9/093

IPC分类号：

B08B9/093 B08B13/00