本技术涉及一种能够更精确测距的测距设备、测距方法、程序、电子装置、学习模型生成方法、制造方法以及深度图生成方法。本发明具有：第一确定单元，确定深度图中的第一像素和与第一像素相邻的第二像素之间的深度值的差是否大于第一阈值；以及第二确定单元，当第一确定单元确定第一像素和第二像素之间的距离的差大于第一阈值时，确定第一像素和第二像素之间的可靠性差是否大于第二阈值，其中，第二确定单元确定第一像素和第二像素之间的可靠性差大于第二阈值，确认第一像素为缺陷像素。例如，本技术可以应用于测距设备。