一维唯一结构的图案到设计的对准
公开
摘要
可根据1D偏移校正确定裸片的第一图像的关注区域。所述1D偏移校正可基于图像帧中的每一者的所述第一图像与第二图像之间的1D偏移，且也可基于所述图像帧中的每一者的设计与所述第二图像之间的1D偏移。所述关注区域可针对对准到所述设计的维度具有零边界且针对另一维度具有旧有边界。
基本信息
专利标题 ：
一维唯一结构的图案到设计的对准
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114424245A
申请号 ：
CN202080065978.X
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2020-09-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
B·布拉尔
申请人 ：
科磊股份有限公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
刘丽楠
优先权 ：
CN202080065978.X
主分类号 ：
G06T7/33
IPC分类号 ：
G06T7/33 G06T7/00 H01L21/68 H01L23/544
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算；推算或计数
G06T
一般的图像数据处理或产生
G06T7/10
分割；边缘检测
G06T7/30
确定图像校准的变换参数，例如图像配准
G06T7/33
使用基于特征的方法
法律状态
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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