研磨用组合物
实质审查的生效
摘要
本发明提供：能够维持高研磨速度，并且改善硅晶圆的外周部的平坦性的方法。本发明为一种研磨用组合物，其用于对硅晶圆进行研磨，且包含磨粒、碱性化合物、下述化学式1所示的含磷化合物、和水，所述化学式1中，R1及R2分别独立地为氢原子、羟基、或者非取代的直链状或支链状的碳数1～20的烷氧基，R3为非取代的直链状或支链状的碳数1～20的烷氧基。
基本信息
专利标题 ：
研磨用组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114466908A
申请号 ：
CN202080068429.8
公开（公告）日 ：
2022-05-10
申请日 ：
2020-08-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田边谊之谷口惠
申请人 ：
福吉米株式会社
申请人地址 ：
日本爱知县
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202080068429.8
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 C09K3/14 B24B37/07 H01L21/304
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-05-27 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/02
申请日 : 20200818
申请日 : 20200818
2022-05-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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