使用远程等离子体的选择性石墨烯沉积
实质审查的生效
摘要
使用远程氢等离子体化学气相沉积技术，在衬底的金属表面上沉积石墨烯。可在低于400℃的温度下沉积所述石墨烯，所述温度适合于半导体处理应用。在位于反应室的上游处的远程等离子体源中产生氢自由基，并且使烃前体流入位于所述远程等离子体源的下游处的所述反应室中。在所述反应室中，在一定条件下通过所述氢自由基来活化所述烃前体，以在所述衬底的所述金属表面上沉积石墨烯。
基本信息
专利标题 ：
使用远程等离子体的选择性石墨烯沉积
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556518A
申请号 ：
CN202080068732.8
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-09-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
巴德里·N·瓦拉达拉简耶瓦·纳克维丘特
申请人 ：
朗姆研究公司
申请人地址 ：
美国加利福尼州
代理机构 ：
上海胜康律师事务所
代理人 ：
樊英如
优先权 ：
CN202080068732.8
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01L21/02 H01L21/285 H01L21/768 C23C16/26 C23C16/452 C23C16/455 C23C16/52 C23C16/50
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20200924
申请日 : 20200924
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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