晶圆形状的测量方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种晶圆形状的测量方法,通过平坦度测量机一边保持具有第一主面和第二主面的晶圆的外周一边测量该晶圆的形状,平坦度测量机具有分别位于投入至机内的晶圆的两面侧的第一光学系统与第二光学系统,包括以下工序:第一工序,仅使用第一光学系统和第二光学系统中的任意一个光学系统,分别测量晶圆的第一主面的表面位移量和第二主面的表面位移量;第二工序,使用通过该一个光学系统测量出的第一主面的表面位移量及第二主面的表面位移量,计算因晶圆的外周保持而产生的外周保持变形量;以及第三工序,从平坦度测量机所输出的Warp值减去外周保持变形量,从而计算晶圆原本的Warp值。由此,提供一种晶圆形状的测量方法,该方法能够使用平坦度测量机测量晶圆原本的Warp值,并能够获得抑制了机械误差的Warp值。

基本信息
专利标题 :
晶圆形状的测量方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114467007A
申请号 :
CN202080069761.6
公开(公告)日 :
2022-05-10
申请日 :
2020-09-04
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
大西理
申请人 :
信越半导体株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 :
张晶
优先权 :
CN202080069761.6
主分类号 :
G01B11/16
IPC分类号 :
G01B11/16  G01B11/24  G01B21/30  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/16
用于计量固体的变形,例如光学应变仪
法律状态
2022-05-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01B 11/16
申请日 : 20200904
2022-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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