基于BFGS拟牛顿-内点算法的光刻机匹配方法
授权
摘要
一种基于BFGS拟牛顿‑内点算法的光刻机匹配方法。本方法以空间像关键尺寸作为描述光刻机成像性能的参数，通过BFGS拟牛顿‑内点算法优化参数化描述的光刻机照明光源以及投影物镜数值孔径，实现光刻机高效率匹配。本发明利用障碍函数为优化问题添加约束，有效地利用了迭代信息，改进了非自由照明系统光刻机的匹配方法，提高了现有方法的匹配精度和效率。适用于具有非自由照明系统的浸没式光刻机之间的匹配。
基本信息
专利标题 ：
基于BFGS拟牛顿-内点算法的光刻机匹配方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113189851A
申请号 ：
CN202110443832.0
公开（公告）日 ：
2021-07-30
申请日 ：
2021-04-23
授权号 ：
CN113189851B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
陈俞光李思坤唐明胡少博王向朝
申请人 ：
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 ：
上海市嘉定区清河路390号
代理机构 ：
上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张宁展
优先权 ：
CN202110443832.0
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F1/36 G03F1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2021-08-17 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20210423
申请日 : 20210423
2021-07-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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