基于协方差矩阵自适应演化策略的光刻机匹配方法
授权
摘要
一种基于协方差矩阵自适应演化策略的光刻机匹配方法。本方法以空间像关键尺寸作为描述光刻机成像性能的参数，通过协方差矩阵自适应演化策略优化像素化描述的光刻机的照明光源，实现光刻间高精度匹配。本发明充分利用了协方差矩阵自适应演化策略在中等规模程度的复杂优化问题上的优势，改进了自由照明系统光刻机的匹配方法，提高了现有方法的匹配精度与效率。适用于具有自由照明系统的浸没式光刻机之间的匹配。
基本信息
专利标题 ：
基于协方差矩阵自适应演化策略的光刻机匹配方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112558426A
申请号 ：
CN202011457382.2
公开（公告）日 ：
2021-03-26
申请日 ：
2020-12-10
授权号 ：
CN112558426B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
李思坤陈俞光唐明王向朝陈国栋胡少博
申请人 ：
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 ：
上海市嘉定区清河路390号
代理机构 ：
上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张宁展
优先权 ：
CN202011457382.2
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2021-04-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20201210
申请日 : 20201210
2021-03-26 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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