发光装置以及曝光装置
公开
摘要
本发明提供发光装置以及曝光装置。发光装置具有：第1发光元件列，由在主扫描方向上配置成列状的发光元件构成；第2发光元件列，由在主扫描方向上配置成列状的发光元件构成，所述第2发光元件列的至少一部分在副扫描方向上与所述第1发光元件列重叠配置；以及发光控制单元，使所述第1发光元件列和所述第2发光元件列在设置于所述第1发光元件列和所述第2发光元件列所重叠的重叠部位中的任一部位的切换部位切换发光，所述发光控制单元使发光元件按照其排列的顺序在所述重叠部位依次点亮，并且使在所述第1发光元件列以及所述第2发光元件列中所点亮的方向相同。
基本信息
专利标题 ：
发光装置以及曝光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114488732A
申请号 ：
CN202110626006.X
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-06-04
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
八木响二
申请人 ：
富士胶片商业创新有限公司
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
韩香花
优先权 ：
CN202110626006.X
主分类号 ：
G03G15/04
IPC分类号 ：
G03G15/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03G
电记录术；电照相；磁记录
G03G15/00
应用电荷图形的电记录工艺的设备
G03G15/04
曝光用的，即将原件图像光学投影到光导记录材料上而进行图像曝光
法律状态
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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