基片处理系统、液量测量方法和计算机可读存储介质
公开
摘要
本发明提供能够容易且简单地测量基片的处理中使用的处理液的释放量的基片处理系统、液量测量方法和计算机可读存储介质。基片处理系统包括：相对于载置台的载置部可拆装的测量单元；用于处理液的测量的测量治具；包含供给部的液处理单元，该供给部构成为能够对测量治具供给处理液；输送机构，其构成为能够在测量单元与液处理单元之间输送测量治具；和控制部。控制部执行以下处理：将测量单元内的测量治具从测量单元输送到液处理单元的处理；从供给部向测量治具释放处理液的处理；将测量治具从液处理单元输送到测量单元的处理；和基于测量单元中的测量值计算处理液的释放量的处理。
基本信息
专利标题 ：
基片处理系统、液量测量方法和计算机可读存储介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114509925A
申请号 ：
CN202111325339.5
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2021-11-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
桾本裕一朗上山昇太寺本聪宽西山雄太畠山真一
申请人 ：
东京毅力科创株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
龙淳
优先权 ：
CN202111325339.5
主分类号 ：
G03F7/30
IPC分类号 ：
G03F7/30 H01L21/67
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/30
用液体消除影像的
法律状态
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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