一种氮化铝和硅的高选择性蚀刻液
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种氮化铝和硅的高选择性蚀刻液，该蚀刻液的主要成分包括占蚀刻液液5‑40质量%碱、0.2‑0.5质量%氟化物、0.1‑0.5质量%有机氯硅烷，1‑5质量%硅酸盐，其余为水。该蚀刻液能将氮化铝层快速清洗干净，不会有晶格残留，且对Si基底的选择比可达1000以上。
基本信息
专利标题 ：
一种氮化铝和硅的高选择性蚀刻液
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114369461A
申请号 ：
CN202111501556.5
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2021-12-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
冯凯贺兆波王书萍张庭徐子豪班昌胜冯帆
申请人 ：
湖北兴福电子材料有限公司
申请人地址 ：
湖北省宜昌市猇亭区猇亭大道66-3号
代理机构 ：
宜昌市三峡专利事务所
代理人 ：
成钢
优先权 ：
CN202111501556.5
主分类号 ：
C09K13/08
IPC分类号 ：
C09K13/08 H01L21/306
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K13/00
蚀刻，表面光亮或浸蚀组合物
C09K13/04
含一种无机酸
C09K13/08
含一种氟化物
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09K 13/08
申请日 : 20211209
申请日 : 20211209
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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