一种高分子材料表面镀覆装置和镀覆方法
实质审查的生效
摘要
本发明实施例提供了一种高分子材料表面镀覆装置和镀覆方法，包括设置在腔室内的第一镀覆机构、第二镀覆机构、第三镀覆机构和展平机构；通过第一镀覆机构对薄膜进行收卷和放卷，通过第二镀覆机构对薄膜进行镀覆，通过第三镀覆机构对薄膜进行转向，使薄膜的第一面和第二面交替的通过第二镀覆机构；通过所述展平机构对薄膜进行展平，使薄膜水平的通过第二镀覆机构。本发明实施例可以同时进行多卷薄膜的蒸镀，提高空间利用率的同时提高了生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种高分子材料表面镀覆装置和镀覆方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114369809A
申请号 ：
CN202111555230.0
公开（公告）日 ：
2022-04-19
申请日 ：
2021-12-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
臧世伟
申请人 ：
重庆金美新材料科技有限公司
申请人地址 ：
重庆市綦江区古南街道桥河工业园区金福二路12号
代理机构 ：
北京卓岚智财知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
沈煜华
优先权 ：
CN202111555230.0
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/24 C23C14/20
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2022-05-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/56
申请日 : 20211217
申请日 : 20211217
2022-04-19 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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