晶体缺陷的检测方法及晶棒生长方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种晶体缺陷的检测方法及晶棒生长方法,所述晶体缺陷的检测方法包括:对一具有晶体缺陷的硅片依次进行热处理和气相刻蚀,以使得所述晶体缺陷显现出来;对所述硅片的表面进行观察,若所述硅片的表面形成有凹坑,则所述硅片中的晶体缺陷为位错环缺陷;若所述硅片的表面形成有凹坑以及位于所述凹坑中的沉淀物,则所述硅片中的晶体缺陷为自间隙原子团聚体缺陷。本发明的技术方案使得能够准确分辨出位错环缺陷带与自间隙原子团聚体缺陷带。

基本信息
专利标题 :
晶体缺陷的检测方法及晶棒生长方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114280069A
申请号 :
CN202111574828.4
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-21
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
薛忠营栗展刘赟
申请人 :
上海新昇半导体科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所
申请人地址 :
上海市浦东新区泥城镇云水路1000号
代理机构 :
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 :
张敏
优先权 :
CN202111574828.4
主分类号 :
G01N21/892
IPC分类号 :
G01N21/892  C30B29/06  C30B33/02  C30B33/12  C30B15/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段,即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/89
在移动的材料中,例如,纸张、织物中
G01N21/892
特征在于待测的瑕疵、缺陷或物品的特点
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 21/892
申请日 : 20211221
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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