本发明公开了一种自摆荡晶圆清洗干燥装置，包括清洗槽以及设置于所述清洗槽内部的摆动机构，所述摆动机构上设置有至少两个晶圆盒承载区，所述晶圆盒承载区用于放置晶圆盒；所述摆动机构包括驱动电机、滑动轨道、滑动块、轴接轨道及摆动臂，所述滑动轨道与所述轴接轨道平行设置，所述滑动轨道位于所述轴接轨道的上方，所述滑动块滑动安装于所述滑动轨道上，所述驱动电机用于控制所述滑动块在所述滑动轨道上进行往复运动。本发明通过摆动机构形成弧形运动路径，使得晶圆在摆荡的过程中，形成特殊的震动、摆动，有效摆幅运动使得清洗设备的设置更加灵活，提高了一般湿法工艺构建的普适性及可行性。