一种气溶胶辅助大气压等离子体沉积装置及系统
授权
摘要
本实用新型属于气溶胶沉积技术领域，具体涉及一种气溶胶辅助大气压等离子体沉积装置及系统，该装置包括样品台、等离子体发生组件、气溶胶输入组件和混合仓；等离子体发生组件包括气源、中空石英管一、电源电极、接地电极和电源；气溶胶输入组件包括气溶胶输送管和气溶胶发生器；混合仓为主管上带支管的中空石英管二；样品台位于中空石英管二主管的下方。本实用新型具有装置简单、成本低廉、无污染，对于不耐高温的基材同样适用的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种气溶胶辅助大气压等离子体沉积装置及系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122332358.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-26
授权号 ：
CN216237270U
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
吴雪梅张潇漫黄天源诸葛兰剑
申请人 ：
苏州大学
申请人地址 ：
江苏省苏州市姑苏区十梓街1号
代理机构 ：
南京纵横知识产权代理有限公司
代理人 ：
候晓燕
优先权 ：
CN202122332358.2
主分类号 ：
C23C16/448
IPC分类号 ：
C23C16/448 C23C16/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/448
产生反应气流的方法，例如通过母体材料的蒸发或升华
法律状态
2022-04-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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