一种新型真空光学玻璃镀膜设备
授权
摘要
本实用新型涉及光学玻璃技术领域，且公开了一种新型真空光学玻璃镀膜设备，包括支撑块、机箱，机箱的顶端表面连接有工作桶，工作桶内壁的底端表面连接有卡接机构，卡接机构的表面连接有固定机构，工作桶内壁的底端表面连接有加热装置，支撑块连接于机箱的底端表面。该新型真空光学玻璃镀膜设备，通过推动T型连接板向下进行移动，T型连接带动连接环插接进固定框架和固定环内部，将金属丝进行固定，防止金属丝进行移动，方便进行更换金属丝，让金属丝的更换的时间短，同时，保护金属丝的安全，T型连接板推动多边形卡块进行移动，T型连接板插接进固定块内部，将T型连接板进行固定，防止T型连接板进行移动。
基本信息
专利标题 ：
一种新型真空光学玻璃镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122484418.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-15
授权号 ：
CN216192691U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
李纯
申请人 ：
武汉正嘉光学有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市黄陂区盘龙城经济开发区佳海都市工业基地D51栋2-6层
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122484418.2
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C16/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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