用于异质结电池的镀膜设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于异质结电池的镀膜设备,其中，包括形成有反应腔的壳体、设于反应腔内用于承载并输送半成品电池的输送单元、用于承载靶材的靶材承载件，所述反应腔包括依次排列且连通的第一反应腔、第二反应腔，所述输送单元贯穿第一反应腔和第二反应腔，并且在第一反应腔内，靶材承载件位于所述输送单元的下方，在第二反应腔内，所述靶材承载件位于所述输送单元的上方。通过上述的镀膜设备，实现不同透明导电层的制备顺序，进而确保掺杂非晶硅层的质量，同时，两层膜在不同反应腔内形成，可以根据需求制备不同性能的透明导电层，进而优化透明导电层的制备工艺。
基本信息
专利标题 ：
用于异质结电池的镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122599768.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-27
授权号 ：
CN216473458U
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
姚铮崔巍吴坚蒋方丹
申请人 ：
嘉兴阿特斯技术研究院有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市秀洲区高照街道康和路325号1号楼、2号楼
代理机构 ：
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
韩晓园
优先权 ：
CN202122599768.3
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35 C23C14/56 H01L31/20 H01L31/072
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2022-05-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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