一种新型高精度分析天平
授权
摘要

本实用新型涉及分析天平技术领域,具体为一种新型高精度分析天平,包括。本实用新型的优点在于:通过设置保护罩机构,在使用时,对保护罩机构进行拆卸清洗,然后组装在一起,将安装架通过安装杆再次安装在天平座上,该机构不仅保证天平座测量时的密封性,同时便于安装与拆卸,打破了传统的固定连接的方式,便于保护罩机构能及时拆卸清洗,便于使用,清洗方便,从而提高了该新型高精度分析天平的实用性;该新型高精度分析天平,通过设置抽湿机构,在使用时,保证保护罩机构内部干燥,抽湿器设置在天平座的正上方,能更好的对测量物体进行除湿,从而保证测量数据的准确性,便于使用,从而提高了该新型高精度分析天平测量时的准确性。

基本信息
专利标题 :
一种新型高精度分析天平
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122632333.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-10-31
授权号 :
CN216483463U
授权日 :
2022-05-10
发明人 :
刘汝灿
申请人 :
浏阳市升科电子科技有限公司
申请人地址 :
湖南省长沙市浏阳市金刚镇李畋社区柏湾片兰华组171号
代理机构 :
合肥市科融知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王前程
优先权 :
CN202122632333.4
主分类号 :
G01G21/28
IPC分类号 :
G01G21/28  G01G21/30  G01G23/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01G
称量
G01G21/00
称量仪器的零部件
G01G21/28
框架;外罩
法律状态
2022-05-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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