本发明公开了一种高效抛光装置及化学抛光方法，包括基座、支撑架、导向机构、伸缩机构和电机，所述支撑架固定在基座的上方，为导向机构提供支撑，所述导向机构的下方设置有伸缩机构，通过导向机构可对伸缩机构的水平位置进行控制，所述伸缩机构的下方连接有电机，所述电机的下方设置有第一安装块，且电机通过输出轴驱动第一安装块的旋转。该高效抛光装置及化学抛光方法设置有第一抛光盘、第二抛光盘和吸附腔，通过吸附腔可将抛光件的一侧表面进行吸附固定，配合第一抛光盘或第二抛光盘的旋转即可实现对抛光件上下表面的抛光处理，方便对抛光件的上下表面进行快速的抛光处理，配合液体存放池内的抛光剂可更快的对抛光件表面进行处理。