一种光谱峰位校正方法
公开
摘要
本发明属于可见光‑短波红外光谱测量技术领域，具体涉及一种光谱峰位校正方法。该方法包括如下步骤：步骤1，试样准备；步骤2，标准光谱测量；步骤3，标准光谱检校；步骤4，待定光谱测量；步骤5，待定光谱检校；步骤6，待测样品光谱测量；步骤7，峰位修正。本方法利用了特殊试样吸收峰和光谱库中光谱吸收峰的双标交叉检校，具有方便、快捷、价格便宜的优势。
基本信息
专利标题 ：
一种光谱峰位校正方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114609057A
申请号 ：
CN202210034613.1
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2022-01-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
邱骏挺木红旭芮歆旻杨燕杰叶发旺
申请人 ：
核工业北京地质研究院
申请人地址 ：
北京市朝阳区小关东里十号院
代理机构 ：
核工业专利中心
代理人 ：
董和煦
优先权 ：
CN202210034613.1
主分类号 ：
G01N21/27
IPC分类号 ：
G01N21/27 G01N21/31
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/17
入射光根据所测试的材料性质而改变的系统
G01N21/25
颜色；光谱性质，即比较材料对两个或多个不同波长或波段的光的影响
G01N21/27
利用光电检测
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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