检查版图中划片槽图形放置的方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种检查版图中划片槽图形放置的方法,包括:步骤一、确定版图中单体的大小。步骤二、选定一个需要进行搜索的单体,将单体的搜索区域范围扩展到具有1/2曝光区域尺寸的区域。步骤三、检查所选定的单体是否为重复单体,包括:在版图中检索出会和所选定的单体的搜索区域部分重叠的划片槽图形,当检索到会和选定的所述单体的搜索区域部分重叠的划片槽图形时,所选定的单体为重复单体。步骤四、对重复单体的区域进行提示。本发明能实现自动检查,从而能提高检查效率和节约时间成本,还能对版图中的所有单体实现全面检查以及能提高检查的准确性。
基本信息
专利标题 :
检查版图中划片槽图形放置的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114429104A
申请号 :
CN202210059209.X
公开(公告)日 :
2022-05-03
申请日 :
2022-01-19
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张兴洲
申请人 :
上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区祖冲之路1399号
代理机构 :
上海浦一知识产权代理有限公司
代理人 :
郭四华
优先权 :
CN202210059209.X
主分类号 :
G06F30/398
IPC分类号 :
G06F30/398
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/398
设计验证或优化,例如:使用设计规则检查、布局与原理图或有限元方法
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/398
申请日 : 20220119
申请日 : 20220119
2022-05-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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