倾斜微柱阵列结构及其制备装置与方法、功能操控方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了倾斜微柱阵列结构及其制备装置与方法、功能操控方法。倾斜微柱阵列结构的制备方法包括:采用飞秒激光经过凸透镜以一个目标角度的入射方式聚焦在高分子材料模板上;驱动高分子材料模板移动实现图案加工;将形状记忆聚合物和固化剂按质量比10∶3进行充分混合后,倾倒在高分子材料模板表面上;在60℃下加热2小时,随后100摄氏度下加热1小时,进行固化后脱模处理,得到倾斜微柱阵列结构。所述目标角度满足:在所述倾斜微柱阵列结构加热到玻璃化温度Tg之上时,通过施加一个目标压力使得所述倾斜微柱阵列处于首尾相连的倒塌状态。倾斜微柱阵列结构能实现液滴操控和表面干粘附双重功能。

基本信息
专利标题 :
倾斜微柱阵列结构及其制备装置与方法、功能操控方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114408856A
申请号 :
CN202210060428.X
公开(公告)日 :
2022-04-29
申请日 :
2022-01-19
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吴思竹李传宗李大宇
申请人 :
合肥工业大学
申请人地址 :
安徽省合肥市包河区屯溪路193号
代理机构 :
合肥市泽信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
方荣肖
优先权 :
CN202210060428.X
主分类号 :
B81C1/00
IPC分类号 :
B81C1/00  B81B3/00  B23K26/36  B23K26/064  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B81
微观结构技术
B81C
专门适用于制造或处理微观结构的装置或系统的方法或设备
B81C1/00
在基片内或其上制造或处理的装置或系统
法律状态
2022-05-20 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B81C 1/00
申请日 : 20220119
2022-04-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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