一种磷化铟材料的抛光工艺优化方法、系统及介质
公开
摘要
本发明涉及一种磷化铟材料的抛光工艺优化方法及系统，属于磷化铟加工技术领域，本发明通过采集磷化铟材料在抛光工艺过程中的实时加工情况；进而建立抛光评估模型，获取磷化铟材料的加工图纸参数，并将所述磷化铟材料的加工图纸参数导入所述抛光评估模型中训练，得到训练好的抛光评估模型；将所述磷化铟材料在抛光工艺过程中的实时加工情况导入到所述训练好的抛光评估模型中，得到评估概率值；基于所述评估概率值调整抛光压头的加工参数。进而实现通过控制抛光过程中产生的有效动能值从而改变加载力，能够有效地避免了在抛光过程中磷化铟材料的抛光损伤现象。
基本信息
专利标题 ：
一种磷化铟材料的抛光工艺优化方法、系统及介质
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114627985A
申请号 ：
CN202210094552.8
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-01-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
潘功寰
申请人 ：
苏州中砥半导体材料有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市高新区珠江路900号5号楼101-1
代理机构 ：
佛山粤进知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
耿鹏
优先权 ：
CN202210094552.8
主分类号 ：
G16C60/00
IPC分类号 ：
G16C60/00 B24B1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G16
特别适用于特定应用领域的信息通信技术
G16C
计算化学;化学信息学; 计算材料科学
G16C60/00
计算机材料科学，即专门用于研究与其设计、合成、加工、表征或利用相关的材料或现象的物理或化学特性的ICT
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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