一种利用样品下表面出射波函数测量电镜残余像差的方法
公开
摘要
本发明公开了一种能够直接利用晶体校正波函数重构中残余像差的方法。该方法基于“振幅衬度最小标准”，对像差系数采取“分段降维”的算法。在保证计算精度的前提下，大大减少计算量。目前，在TEM中获取原子像是材料科学领域必不可少的研究手段。原则上，波函数重构所获得的相位像能够反映样品中的投影势场，然而由于残余像差的影响，这一点往往难以实现。而本发明解决了在晶体中校正残余像差的难题。相较于非晶法，该方法可直接在晶体区域使用，采集数据时不必保证图像中一定含有非晶，这给实验工作带来了极大的便利。相较于先前的晶体法来说，该方法能够校正更高阶以及数值更大的像差。本发明在材料科学领域中有着更广泛的应用前景。
基本信息
专利标题 ：
一种利用样品下表面出射波函数测量电镜残余像差的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114624006A
申请号 ：
CN202210207671.X
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-03-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈江华明文全陈志逵
申请人 ：
湖南大学
申请人地址 ：
湖南省长沙市岳麓区麓山南路2号
代理机构 ：
长沙市融智专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
蒋太炜
优先权 ：
CN202210207671.X
主分类号 ：
G01M11/02
IPC分类号 ：
G01M11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试；其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M11/02
•光学性质测试
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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