一种防污膜镀膜装置及镀膜方法
公开
摘要
本发明属于光学薄膜技术领域，具体公开了一种防污膜镀膜装置及镀膜方法，包括腔体，腔体内部设有坩埚、石墨盒和加热装置；坩埚内设有凹槽，凹槽内设有石墨盒；石墨盒内设有防污膜药丸，石墨盒顶部设有出气孔；坩埚外部设有加热装置。具体包括以下步骤：将防污膜药丸放置在石墨盒中；将石墨盒放在坩埚的凹槽中；将装有石墨盒的坩埚进行真空处理；通过加热装置加热石墨盒，石墨盒受热使防污膜药丸上的防污膜药液从出气孔中蒸发出来，从而将防污膜镀到产品上。本发明通过石墨盒和上方设置的出气孔，同时通过加热石墨盒间接加热内部的防污膜药丸，可以使防污膜药水均匀稳定排出，防污膜药丸利用率更高。
基本信息
专利标题 ：
一种防污膜镀膜装置及镀膜方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114622169A
申请号 ：
CN202210452597.8
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2022-04-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
崔户丹王鹏涛张景涛
申请人 ：
华天慧创科技(西安)有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市经济技术开发区凤城五路123号
代理机构 ：
西安通大专利代理有限责任公司
代理人 ：
马贵香
优先权 ：
CN202210452597.8
主分类号 ：
C23C14/30
IPC分类号 ：
C23C14/30 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/28
波能法或粒子辐射法
C23C14/30
电子轰击法
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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