一种颗粒物去除装置及外延设备
授权
摘要
本公开提供一种颗粒物去除装置及外延设备，所述颗粒物去除装置包括排气通道，与所述炉体内腔相通，所述排气通道包括并联的排气管路和抽气管路，其中所述抽气管路上设有用于从所述炉体内腔抽气的真空泵和用于控制所述抽气管路通断状态的第一阀门。本公开实施例提供的颗粒物去除装置及外延设备能够改善外延炉内颗粒物影响，且不会降低设备稼动率，不影响产能。
基本信息
专利标题 ：
一种颗粒物去除装置及外延设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202220246298.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2022-01-29
授权号 ：
CN216688417U
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
李佳成王力韩晓虎
申请人 ：
西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
胡永芳
优先权 ：
CN202220246298.4
主分类号 ：
C30B25/14
IPC分类号 ：
C30B25/14 C30B25/02 C30B29/06
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B25/00
反应气体化学反应法的单晶生长，例如化学气相沉积生长
C30B25/02
外延层生长
C30B25/14
气体供给或排出用的装置；反应气流的变换
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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