一种多工件盘镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种多工件盘镀膜装置，包括：旋转驱动机构、真空室、旋转轴、多个旋转组件和多个蒸发源组，所述旋转驱动机构设置在所述真空室的顶部，所述旋转轴设置在所述真空室内部，与所述旋转驱动机构连接；所述多个旋转组件依次穿过所述旋转轴并间隔设置在所述旋转轴上，每个旋转组件包括工件架和设置在所述工件架上的工件盘；所述多个蒸发源组设置在所述真空室的侧部，用于在镀膜过程中向所述工件盘上的工件的上表面和下表面同时喷射膜料。本实用新型可以同时放两个以上的工件盘，并且基片两面一次镀膜完成，能够极大的提高单炉产量。
基本信息
专利标题 ：
一种多工件盘镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202220308272.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2022-02-16
授权号 ：
CN216738504U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
刘亮魏国军肖畅
申请人 ：
布勒莱宝光学设备（北京）有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区经济技术开发区永昌南路2号5号楼
代理机构 ：
北京锺维联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄利萍
优先权 ：
CN202220308272.8
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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