在球面衬底上制造金刚石涂层的方法及其装置
专利权的终止
摘要
本发明针对目前急需解决了球面衬底的CVD金刚石沉积成形问题,提出了一种在球面衬底上制造金刚石涂层的方法及其装置,通过均匀表面温度场,在球面衬底表面均匀制备CVD金刚石涂层,通过在工作台的下方安装一个由特种陶瓷制成的锥形辊,锥形辊带动球面衬底旋转,使得球面衬底表面温度处于稳定状态,通过沉积纳米尺寸颗粒组成的CVD金刚石涂层来降低涂层表面粗糙度,提高涂层韧性。本发明保证了球面衬底表面沉积CVD金刚石膜时温度场均匀、稳定,使得CVD金刚石膜的成核和生长能够均匀、稳定地进行,沉积的纳米CVD金刚石涂层的表面粗糙度很低,涂层不需要进一步加工就可以直接使用。
基本信息
专利标题 :
在球面衬底上制造金刚石涂层的方法及其装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1752278A
申请号 :
CN200510094829.3
公开(公告)日 :
2006-03-29
申请日 :
2005-10-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
卢文壮左敦稳徐锋黎向锋王珉
申请人 :
南京航空航天大学
申请人地址 :
210016江苏省南京市御道街29号
代理机构 :
南京天华专利代理有限责任公司
代理人 :
瞿网兰
优先权 :
CN200510094829.3
主分类号 :
C23C16/27
IPC分类号 :
C23C16/27 C23C16/44
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
C23C16/27
仅沉积金刚石
法律状态
2013-12-04 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101547778842
IPC(主分类) : C23C 16/27
专利号 : ZL2005100948293
申请日 : 20051014
授权公告日 : 20080514
终止日期 : 20121014
号牌文件序号 : 101547778842
IPC(主分类) : C23C 16/27
专利号 : ZL2005100948293
申请日 : 20051014
授权公告日 : 20080514
终止日期 : 20121014
2008-05-14 :
授权
2006-05-24 :
实质审查的生效
2006-03-29 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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