研磨液组合物
专利权的终止
摘要
本发明提供一种研磨液组合物，其含有有机氮化合物、有机多元酸、研磨材料和水，其中有机氮化合物在分子内具有两个或更多个氨基或亚氨基，或者在分子内具有1个或多个氨基以及1个或多个亚氨基；以及提供使用该研磨液组合物的基板的制造方法和基板表面污染的减少方法。该研磨液组合物例如可以适用于存储硬盘等硬盘用基板的制造工序。
基本信息
专利标题 ：
研磨液组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1781971A
申请号 ：
CN200510125376.6
公开（公告）日 ：
2006-06-07
申请日 ：
2005-11-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
藤井滋夫末永宪一
申请人 ：
花王株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
永新专利商标代理有限公司
代理人 ：
陈建全
优先权 ：
CN200510125376.6
主分类号 ：
C08J5/14
IPC分类号 ：
C08J5/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08J
加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
C08J5/00
含有高分子物质的制品或成形材料的制造
C08J5/14
磨蚀或摩擦的制品或材料的制造
法律状态
2018-01-05 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C08J 5/14
申请日 : 20051116
授权公告日 : 20100505
终止日期 : 20161116
申请日 : 20051116
授权公告日 : 20100505
终止日期 : 20161116
2010-05-05 ：
授权
2007-07-25 ：
实质审查的生效
2006-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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