一种刻蚀设备的射频起辉控制方法
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要
本发明涉及一种刻蚀设备的射频起辉控制方法，通过以下步骤：A.在射频起辉过程中预设匹配电容的位置；B.在工艺步骤切换过程时，对射频电源的能量调节按平滑缓变方式进行，并设置匹配器电容调节方式为射频能量自动跟踪方式。本发明的方法能够可靠地保证射频系统起辉并避免工艺步骤切换过程中的辉光熄灭，从而提高了系统的可靠性。
基本信息
专利标题 ：
一种刻蚀设备的射频起辉控制方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1852628A
申请号 ：
CN200510126351.8
公开（公告）日 ：
2006-10-25
申请日 ：
2005-12-07
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张秀川
申请人 ：
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请人地址 ：
100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号
代理机构 ：
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 ：
王常风
优先权 ：
CN200510126351.8
主分类号 ：
H05H1/00
IPC分类号 ：
H05H1/00 H01L21/00
法律状态
2018-08-14 ：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : H05H 1/00
变更事项 : 专利权人
变更前 : 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
变更后 : 北京北方华创微电子装备有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
变更后 : 100176 北京经济技术开发区文昌大道8号
变更事项 : 专利权人
变更前 : 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
变更后 : 北京北方华创微电子装备有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
变更后 : 100176 北京经济技术开发区文昌大道8号
2008-03-26 ：
授权
2006-12-20 ：
实质审查的生效
2006-10-25 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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