使用有机无机混合材料和纳米压印技术的微细结构体的制造方法...
专利权的终止
摘要

本发明的目的在于提供一种微细结构体的制造方法,其并非使用蚀刻处理而是使用纳米压印技术,经济性良好地制造含有可使所入射的光线有效通过的微细凹凸部的微细结构体。本发明使用纳米压印技术,并通过以下步骤制造微细结构体:在透明基板上对通过添加铝、锗或钛等的金属氧化物及/或烷醇盐而控制折射率的有机无机混合材料进行涂布的步骤;对涂布有上述有机无机混合材料的基板进行预烘热的步骤;在减压状态下对经过涂布的上述有机无机混合材料压接具有微细凹凸部的模具并加热的步骤及将上述有机无机混合材料从模具脱模的步骤。

基本信息
专利标题 :
使用有机无机混合材料和纳米压印技术的微细结构体的制造方法以及微细结构体
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1790064A
申请号 :
CN200510130583.0
公开(公告)日 :
2006-06-21
申请日 :
2005-12-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
森本勉三浦伸仁筒井长德藤井和彦神前健嗣罗永春永井直美
申请人 :
艾特士股份有限公司
申请人地址 :
日本滋贺县
代理机构 :
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 :
王允方
优先权 :
CN200510130583.0
主分类号 :
G02B5/00
IPC分类号 :
G02B5/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
法律状态
2021-11-26 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02B 5/00
申请日 : 20051214
授权公告日 : 20091104
终止日期 : 20201214
2009-11-04 :
授权
2008-10-01 :
专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 艾特士股份有限公司
变更后权利人 : 钟化股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本滋贺县
变更后权利人 : 日本大阪
登记生效日 : 20080829
2008-01-30 :
实质审查的生效
2006-06-21 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332