用于压印微米结构和/或纳米结构的装置和方法
公开
摘要
本发明涉及一种用于将结构压印到压印料中的装置(1)，所述装置具有用于将所述结构压印到所述压印料中的结构印模(4,4',4'',4''',4iv,4v,4vi,4vii,4viii)，其特征在于，在压印和与所述压印料分离期间，结构印模(4,4',4'',4''',4iv,4v,4vi,4vii,4viii)能够保持在恒定的局部应变下。
基本信息
专利标题 ：
用于压印微米结构和/或纳米结构的装置和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114600043A
申请号 ：
CN201980101442.6
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2019-11-19
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
J·可汗W·佐尔巴赫
申请人 ：
EV集团E·索尔纳有限责任公司
申请人地址 ：
奥地利圣弗洛里安
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
阮桢斐
优先权 ：
CN201980101442.6
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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