一种适用于方形结构的纳米压印设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种适用于方形结构的纳米压印设备，包括腔体，腔体的上侧壁左右对称固定安装有紫外灯和氮吹清洁器，腔体的下侧壁左右对称固定安装有加热盘和底座，加热盘的上表面固定装配有托盘，托盘的顶部装配有基板，底座的顶部装配有承压板，承压板的表面装配有软膜，承压板与托盘的侧壁之间固定装配有铰链。托盘内设置均匀分布的方形真空槽，在承压板的底部设置有光源发射器，通过设置的光源发射器可以实现软膜与承压板的精确定位，设置有除溢胶装置，在压印完成后可以对承压板的表面进行清胶，然后打开氮吹清洁器，去除承压板表面的溢胶残渣，方便下次压印的进行。
基本信息
专利标题 ：
一种适用于方形结构的纳米压印设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020343308.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-18
授权号 ：
CN211427042U
授权日 ：
2020-09-04
发明人 ：
冀然
申请人 ：
青岛天仁微纳科技有限责任公司
申请人地址 ：
山东省青岛市城阳区长城路89号青岛博士创业园21A号楼407、408室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020343308.7
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2020-09-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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