圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构

专利权的终止

摘要

圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构，由上中下圆弧导轨、限位外套、压模卡盘、压模、基片、钢球或滚柱、上下隔离架、拉簧和拉簧挂销组成，上中下圆弧导轨之间有钢球或滚柱，并通过拉簧拉紧连接，下圆弧导轨与装有压模的压模卡盘相接，正对压模的下方是基片，限位外套安装在上圆弧导轨上，它的下方四周对下圆弧导轨的旋转角度范围起限位作用。当压模和基片由于不平行，在下压时某处先接触，压模可绕过压模下表面中心点的Y或X轴线作微滚动旋转，达到压模和基片的完全平行贴合与压紧，不产生对准偏离与在水平面内旋转，使纳米压印套准精度大幅提高，制作出复杂多层的纳米图形结构，该机构用常规设备加工，制作方便，成本低廉，应用广泛。

基本信息

专利标题：

圆弧导轨纳米压印倾斜校正机构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1799852A

申请号：

CN200510130741.2

公开（公告）日：

2006-07-12

申请日：

2005-12-27

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

陈旭南罗先刚陈献忠杜春雷胡承刚

申请人：

中国科学院光电技术研究所

申请人地址：

610209四川省成都市双流350信箱

代理机构：

北京科迪生专利代理有限责任公司

代理人：

刘秀娟

优先权：

CN200510130741.2

主分类号：

B41K3/00

IPC分类号：

B41K3/00 B41M5/26 G03F7/20 B41F27/00