6F2存取晶体管配置和半导体存储器...
专利权的终止
摘要

提供了一个存取晶体管的配置,用于具有共享位线接触的6F2堆叠电容器DRAM存储单元的布局。存取晶体管沿半导体线成对排列。各对晶体管的两个晶体管侧面反转朝向各自的公共位线部分。借助一个总是断开的隔离晶体管,每对晶体管与相邻的晶体管对隔开。存取晶体管和隔离晶体管被当作同样的凹进沟道晶体管而形成,具有延长的沟道和增强的隔离性质。对这两类晶体管的接点可提供相同的掺杂浓度。由于同样的器件既提供为存取晶体管,又提供为隔离晶体管,因而降低了光刻图案化工艺的复杂性。

基本信息
专利标题 :
6F2存取晶体管配置和半导体存储器件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1790722A
申请号 :
CN200510131639.4
公开(公告)日 :
2006-06-21
申请日 :
2005-12-15
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
T·施勒泽尔
申请人 :
因芬尼昂技术股份公司
申请人地址 :
德国慕尼黑
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
吴立明
优先权 :
CN200510131639.4
主分类号 :
H01L27/108
IPC分类号 :
H01L27/108  H01L21/8242  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27/00
由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27/02
包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27/04
其衬底为半导体的
H01L27/10
在重复结构中包括有多个独立组件的
H01L27/105
包含场效应组件的
H01L27/108
动态随机存取存储结构的
法律状态
2017-02-01 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101700610053
IPC(主分类) : H01L 27/108
专利号 : ZL2005101316394
申请日 : 20051215
授权公告日 : 20080723
终止日期 : 20151215
2016-01-20 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101726847566
IPC(主分类) : H01L 27/108
专利号 : ZL2005101316394
登记生效日 : 20151230
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 奇梦达股份公司
变更后权利人 : 英飞凌科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 德国慕尼黑
变更后权利人 : 德国瑙伊比贝尔格市
2012-10-31 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移变更事项 : 地址
变更前权利人 : 德国慕尼黑
变更后权利人 : 德国慕尼黑
登记生效日 : 20120920
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101457931986
IPC(主分类) : H01L 27/108
专利号 : ZL2005101316394
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 英飞凌科技股份有限公司
变更后权利人 : 奇梦达股份公司
2012-10-31 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101457931985
IPC(主分类) : H01L 27/108
专利号 : ZL2005101316394
变更事项 : 专利权人
变更前 : 因芬尼昂技术股份公司
变更后 : 英飞凌科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 德国慕尼黑
变更后 : 德国慕尼黑
2008-07-23 :
授权
2006-08-16 :
实质审查的生效
2006-06-21 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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