接近型曝光装置

专利权的终止

摘要

接近型曝光装置。讨论了一种用于对准基板与掩模的装置和方法。在本发明的一个方面，所述装置包括：掩模台，其中该掩模台包括被构造成固定地支撑掩模的掩模固定台和支撑该掩模固定台的基台；以及布置在基台中的至少一个引导单元，其与掩模固定台耦合，并且被构造成移动掩模固定台，以沿预定方向移动掩模。

基本信息

专利标题：

接近型曝光装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1834787A

申请号：

CN200510132967.6

公开（公告）日：

2006-09-20

申请日：

2005-12-29

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

李千洙车相焕申铉长

申请人：

LG.菲利浦LCD株式会社

申请人地址：

韩国首尔

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

孙海龙

优先权：

CN200510132967.6

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2021-12-10 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20051229
授权公告日 : 20090304
终止日期 : 20201229

2009-03-04 ：

授权

2006-11-22 ：

实质审查的生效

2006-09-20 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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