穿孔顶头高能离子注入碳化钨(WC)梯度材料制造技术
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明涉及一种穿孔顶头高能离子注入碳化钨(WC)梯度材料制造技术，本发明通过在低真空情况下适当充入惰性气体，且在异常辉光放电条件下，形成高能钨离子和惰性气体离子。首先将穿孔顶头进行气体软氮化处理后，然后在一定温度下，将金属钨离子注入到穿孔顶头表面，再对钨进行碳化处理；或者首先将穿孔顶头进行气体软氮化处理后，再进行金属钨离子和碳离子的双离子高能注入。该技术可以在穿孔顶头的表层形成一定深度的碳化钨合金层，提高了金属表面的硬度，改善了穿孔顶头表面的耐磨性、耐高温性和自润滑性。用本发明制造的产品具有耐高温、高硬度、高强度、高耐磨、耐腐蚀等优点，并显著地提高了穿孔顶头的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
穿孔顶头高能离子注入碳化钨(WC)梯度材料制造技术
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1990905A
申请号 ：
CN200510135548.8
公开（公告）日 ：
2007-07-04
申请日 ：
2005-12-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
赵维扬田云峰徐实
申请人 ：
包头市中天宏远科技有限公司
申请人地址 ：
014010内蒙古自治区包头市稀土开发区创业园区软件园D座411室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN200510135548.8
主分类号 ：
C23C14/48
IPC分类号 ：
C23C14/48 C23C8/24 C23C8/20
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/48
离子注入
法律状态
2010-03-24 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2008-10-22 ：
实质审查的生效
2007-07-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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