隔件形成方法与隔件形成装置
专利权的终止
摘要
本发明涉及用于将液晶屏所用一对基板间的液晶封入间隙保持恒定的隔件的形成方法。在此方法中，将分散有粒状隔件的墨水(7)经喷墨法滴下到一对基板中的一块基板上的多个隔件形成位置(包围各像素R.G.B的格子状黑色矩阵5的交叉部)上，此时于每个隔件形成位置处滴下多滴墨水(7)。据此方法，能将隔件收纳于不影响像素的范围内且能可靠地形成必要个数的隔件。结果能稳定地保持液晶层厚度，还能抑制隔件本身对显示图像质量的影响，有助于改进液晶屏的质量。
基本信息
专利标题 ：
隔件形成方法与隔件形成装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1914551A
申请号 ：
CN200580003470.2
公开（公告）日 ：
2007-02-14
申请日 ：
2005-10-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田中保三村田真朗汤山纯平越名浩史内田宽人羽根功二辻孝宪矢作充
申请人 ：
株式会社爱发科
申请人地址 ：
日本神奈川
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
杜日新
优先权 ：
CN200580003470.2
主分类号 ：
G02F1/1339
IPC分类号 ：
G02F1/1339
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/1339
•••••垫圈；间隔体；液晶单元的密封
法律状态
2021-10-01 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02F 1/1339
申请日 : 20051018
授权公告日 : 20090617
终止日期 : 20201018
申请日 : 20051018
授权公告日 : 20090617
终止日期 : 20201018
2009-06-17 ：
授权
2007-04-11 ：
实质审查的生效
2007-02-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
CN100501535C.PDF
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2、
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